很多朋友不知道【臺(tái)積電拿下IMS約10%股權(quán) 為2nm芯片商用化做準(zhǔn)備？】，今天小綠就為大家解答一下。

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　　【手機(jī)中國(guó)新聞】9月13日，手機(jī)中國(guó)了解到，臺(tái)積電在日前舉辦的臨時(shí)董事會(huì)上宣布，擬不超4.328億美元收購(gòu)英特爾手中IMS Nanofabrication（IMS）約10%股權(quán)，預(yù)計(jì)整個(gè)交易將在2023年第四季度完成。另外，臺(tái)積電還宣布擬不超過(guò)1億美元額度認(rèn)購(gòu)Arm股票。

　　談及半導(dǎo)體設(shè)備，荷蘭光刻機(jī)設(shè)備巨頭ASML多被大眾所熟知。不過(guò)值得注意的是，在芯片制造的過(guò)程中，IMS提供的多光束掩模寫入機(jī)也尤為重要。IMS于1985年在維也納成立，是一家多電子束直寫光刻設(shè)備廠商，產(chǎn)品主要應(yīng)用于先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)光刻掩模制造。

　　半導(dǎo)體廠商D2S的首席執(zhí)行官Aki Fujimura表示：“在EUV開(kāi)始進(jìn)入大批量制造的同時(shí)，行業(yè)開(kāi)始采用多光束掩模寫入器，現(xiàn)在幾乎所有的EUV掩模都是用多光束掩模寫入器寫入的?！?/p>　　簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，如果沒(méi)有IMS的掩模寫入器，所有EUV工藝技術(shù)都將陷入停頓。EUV工藝技術(shù)被用于7nm以來(lái)的所有臺(tái)積電、英特爾的工藝節(jié)點(diǎn)。另外，三星的所有邏輯工藝技術(shù)都使用了EUV，該公司還在其最新的兩代DRAM工藝技術(shù)中使用了EUV。

　　知名分析師郭明錤指出，臺(tái)積電這兩筆投資主要目的為提高垂直整合能力，以確保從目前3nm的FinFET技術(shù)能順利轉(zhuǎn)換到2nm的GAA技術(shù)。其中，投資IMS可確保關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)開(kāi)發(fā)與供應(yīng)能滿足2nm商用化的需求。

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